4:由显影装置30对曝光后的基板S进行显影。
1:对基板S的主体进行曝光；
2:由基板输送机构50将基板S输送至显影装置30 ；
3:由边缘曝光装置20对基板S的边缘进行曝光；
4:由显影装置30对曝光后的基板S进行显影。
其中，在步骤I中可利用主体曝光机10对基板S的主体进行曝光。
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显影主要作用是用于加强阴影部分的影纹，减低高影调部分的密度。及基板导正装置，其设置于该基板输送机构的两侧，用于导正在该基板输送机构上输送的基板，以使该基板的边缘与该边缘曝光装置对齐。曝光时，阴影部分须比正常提高一个区如果胶片容易发灰，在溶液B中加入少量的10%S化钾溶液。底片上的高密度部分的厚度，主要依靠A溶液显影时间的控制，底片进入溶液B以后，高密度部分的显影作用已经停止了，但低密度的部分仍然继续进行，溶液B可以调制的比较强，但是B溶液越强，颗粒就会越粗，所以这种冲洗法需要事前进行比较大量的试验。
曝光显影工艺标牌主要以铜、铁、铝、锌合金、铅锡合金等原材料为基础，通过冲压、压铸、蚀刻、印刷、珐琅、仿珐琅、烤漆等工艺，制作成铭牌、徽章、胸章、奖章、钥匙扣、帽徽、帽夹、钱夹、纪念章、、工艺标牌、袖扣、相框、手机吊饰、领带夹、皮带头、吊牌、开瓶器等工艺饰品以及各类曝光显影工艺标牌、曝光显影工艺铭牌等数不同类别的各种曝光显影工艺标牌产品、