测试步骤
根据空白版供应商推荐的显影时间建立显影工艺的初始Recipe，一般初始Recipe内容如下：
掩模版停在高位，冲洗显影喷嘴和蚀刻喷嘴（先喷药液5秒，然后喷水10秒）掩模版降至底部，转速设置100rpm，显影喷嘴喷水浸润掩模10秒。显影喷嘴切换到显影液，显影时间参考空白版供应商建议。完成显影后，显影喷嘴切换到水冲洗15秒。改用Top beam喷嘴冲水清洗掩模版，掩模版应上下移动以确保整个掩模版被冲洗干净。冲洗完成后，蚀刻喷嘴喷水冲洗10秒，然后切换到蚀刻液。蚀刻时间参考Etch to clea则试结果。完成蚀刻后，蚀刻喷嘴切换到水冲洗15秒。改用Top beam喷嘴冲洗掩模版。+完成冲洗后， 1000rpm旋转甩干。技术关键点：低温平行光源,波长根据油墨特性进行设备，目前光源是一大难点问题。
显影液的组成
显影过程是将感光材料浸泡在显影液中完成的。显影液是由四种主要成份组成：显影剂、促进剂、保护剂和。下面分别加以介绍。
显影剂
从化学的组分来看，显影剂可以分为无机化合物和有机化合物两大类。无机化合物可作为显影剂的并不少，但其中显影性能良好的却不多。以前制版用感光材料以湿片为主时，以草酸亚铁作为显影主剂，随着湿片的淘汰，当然现在也就不再使用了。目前，使用的都是有机显影剂。根据数据分析结果中Radio误差数据，调整显影工艺段Recipe，通过显影补偿手段使得Radio误差数据优。
曝光显影的概念：
曝光工艺是怎样？
将需要的图形根据油墨的感光特性制成掩膜板（光罩/Mask)，掩膜板与喷墨后的玻璃紧密接触，通过曝光技术，使图形转印到玻璃之上，完成原有印刷之功能。技术关键点：低温平行光源,波长根据油墨特性进行设备，目前光源是一大难点问题。
显影工艺是怎样？
前工站加工的玻璃进入显影设备，对需要去除的油墨进行化学反应，进行剥离，然后进行表面清洗，形成的油墨3D盖板。显影操作需控制好显影液的温度、传送速度、喷淋压力等参数。