8分钟前 姜堰音响壳曝光显影制造商信息推荐「利成感光」[利成感光38dbdb8]内容：
感光(曝光)完成后就要进行下一步工作——显影。显影的目的是通过显影将未曝光的地方冲走，经过曝光的地方固化，这样就能确定需要被腐蚀和不被腐蚀的图案。以便后续蚀刻加工的精度。
3D曲面玻璃的曝光显影技术的优势在于：在玻璃表面有极高的解像力，利用曝光显影工艺正好可以解决遮蔽油墨不能通过传统印刷解决的问题，具有精度高，量产性好，良率高等特点，采用曝光显影技术，遮蔽油墨可控良率可达90%以上。
曝光显影作为玻璃外观修饰的重要工艺，目前技术工艺方面都已趋于稳定，众多设备厂家涉猎这方面的技术。3D曲面CG玻璃须与中框的结合，但是3D曲面玻璃本身物理加工存在难以去除的公差，进行曝光工艺加工时工艺区间被压缩，只有对公差配合完全掌握，
曝光时菲林胶片黑色部分的钢片不被感光，对于空白的蚀刻钢片感光，钢片感光的油墨发生聚合反应，然后通过显影机，蚀刻钢片上的感光油墨不被显影液所融化，为感光的油墨被显影液去除，通过这样的方式，需要蚀刻的图案显影在钢片上面了。
曝光显影是一种摄影技术中常用的过程，通常用于将摄影底片或者电子传感器中记录的光影信息转化为可见影像的过程。曝光是将光照射在底片或传感器上的过程，而显影则是将暴露的底片或传感器做出可见影像的过程。这个过程在摄影，印刷和微电子制造等很多领域中都有应用。曝光显影是一种用于光刻制程的技术，主要用于制造半导体芯片、液晶显示器等微电子器件。它包含两个阶段：曝光：在将光线通过掩膜中的芯片图案照射到光刻胶表面的过程中，使得光刻胶在芯片表面保留下芯片图案的影像。显影：通过将芯片表面的光刻胶所形成的图案暴露在显影液中进行刻蚀，去除光刻胶的非芯片图案区域，使得芯片上仅保留出所需要的器件结构。
从上式可以看出，曝光总能量e随光强度j和曝光时间t而变化。当曝光时间丁一定，光强度改变，曝光总能量也随之改变。所以尽管严格控制了曝光时间，但实际上干膜在每次曝光时所获得的曝光总能量并不一定相同，因而聚合程度也就不同。为使每次曝光能量相同，必须使用光能量积分仪来计量曝光。显影时，通过感光鼓和显影辊之间的电场作用，碳粉被吸到感光鼓曝光区域。其中曝光部位电位低于显影辊表面电位低于感光鼓未曝光部位电位。多用在数码复合机与激光打印机中。
